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新型鋼鐵無氰鍍銅工藝及其應(yīng)用

   2020-09-01 互聯(lián)網(wǎng)中國(guó)鑄造網(wǎng)16420
核心提示:http://www.pf.hc360.comT|T中國(guó)鑄造網(wǎng):蔣義鋒,陳明輝,楊防祖,田中群,周紹民 (廈門大學(xué)化學(xué)化工學(xué)院
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    中國(guó)鑄造網(wǎng):蔣義鋒,陳明輝,楊防祖,田中群,周紹民

    (廈門大學(xué)化學(xué)化工學(xué)院,固體表面物理化學(xué)國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,福建廈門361005)

    摘要:在第一代鋼鐵無氰鍍銅工藝的基礎(chǔ)上,開發(fā)出第二代無氰堿性鍍銅新工藝,成功地解決了鍍液的穩(wěn)定性問題。鍍液的基礎(chǔ)配方和工藝條件為:CuSO4·5H2O25.0g/L,C6H5O7K3·H2O0.2mol/L,輔助配位劑0.05mol/L,穩(wěn)定劑0.2mol/L,活化劑0.02mol/L,H3BO330g/L,KOH20g/L,添加劑10mL/L,溫度45°C,pH8.8~9.2,電流密度1.0~1.5A/dm2,陽(yáng)極為電解銅。在新工藝鍍液中引入一價(jià)銅穩(wěn)定劑和活化離子,保證了其穩(wěn)定應(yīng)用。通過赫爾槽和掛鍍?cè)囼?yàn)研究了鍍液組分和工藝條件對(duì)鍍層性能和電流效率的影響,以及鍍液的抗雜質(zhì)能力。結(jié)果表明,在本工藝條件下,所得鍍層性能良好,電流效率高于90%,鍍液的抗雜質(zhì)性能優(yōu)良。本工藝適用于鋼鐵、銅合金預(yù)鍍銅。經(jīng)數(shù)月的連續(xù)生產(chǎn),鍍液保持穩(wěn)定,產(chǎn)品結(jié)合力合格。

    關(guān)鍵詞:鋼鐵;無氰鍍銅;工藝;赫爾槽試驗(yàn);應(yīng)用

    中圖分類號(hào):TQ153.14文獻(xiàn)標(biāo)志碼:A

    文章編號(hào):1004–227X(2012)08–0007–04

    1·前言

    銅鍍層常作為銅合金、鋼鐵、鋅合金、塑料等材料的預(yù)鍍層。在鋼鐵基體上預(yù)鍍銅,必須同時(shí)克服銅的置換和鋼鐵鈍化問題。目前,鋼鐵件的預(yù)鍍常采用氰化物體系鍍銅。由于氰化物是劇毒物質(zhì),需要研究和開發(fā)無氰鍍銅工藝來取代氰化物鍍銅。

    目前,無氰鍍銅工藝按配位劑主要有焦磷酸鹽、多聚磷酸鹽、檸檬酸鹽、酒石酸鹽、乙二胺、三乙醇胺體系以及混合配位劑體系等。無氰鍍銅工藝眾多,但綜合工藝性能與氰化物鍍銅間的差距較大,尚不能完全解決基體與銅鍍層的結(jié)合力及鍍液的老化問題。

    本課題組經(jīng)過5年的努力和探索,已開發(fā)出第一代鋼鐵無氰鍍銅工藝。本文在第一代鋼鐵無氰鍍銅工藝的基礎(chǔ)上,針對(duì)第一代鋼鐵無氰鍍銅液中某些物質(zhì)相對(duì)不穩(wěn)定的問題,創(chuàng)新性地引入新型活化劑和一價(jià)銅穩(wěn)定劑,開發(fā)出第二代環(huán)保型鋼鐵無氰鍍銅新工藝。鍍液穩(wěn)定性顯著提高;鋼鐵件置于鍍液中不發(fā)生銅置換反應(yīng),保證銅鍍層與基體的結(jié)合力;鍍液中的銅離子可順利地沉積生成性能良好的鍍層;電鍍過程中,電解銅陽(yáng)極可正常陽(yáng)極溶出;鍍液深鍍能力優(yōu)異。數(shù)月來的生產(chǎn)實(shí)踐證明,其工藝維護(hù)成本與氰化鍍銅工藝相當(dāng),遠(yuǎn)低于進(jìn)口產(chǎn)品的價(jià)格,可取代氰化鍍銅工藝而廣泛應(yīng)用于鋼鐵、銅合金等的預(yù)鍍。使環(huán)保型鋼鐵無氰鍍銅新工藝替代氰化物鍍銅、真正實(shí)現(xiàn)生產(chǎn)應(yīng)用成為可能,具有非常廣闊的產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用前景。

    2·鍍液組成與工藝

   

圖

    鍍液鼓空氣,用20%(體積分?jǐn)?shù))H2SO4溶液或20%(質(zhì)量分?jǐn)?shù))KOH溶液調(diào)pH,陽(yáng)極為電解銅,陰極為鐵件。陰極的預(yù)處理為:水洗─堿液除油(Na3CO350g/L,Na3PO450g/L,NaOH10g/L,洗潔精3mL/L,85°C,5min)─水洗─酸洗─水洗─去離子水洗。

    3·工藝性能

    3.1鐵絲置換反應(yīng)

    在所述鍍液組成和工藝條件下,分別改變pH、溫度和銅離子濃度,鐵絲浸入鍍液中10min后,考察鐵絲的置換反應(yīng)情況。結(jié)果表明,在pH8.5~11.5、溫度25~55°C、銅濃度0.05~0.20mol/L條件下,鐵絲在鍍液中浸泡10min不發(fā)生置換反應(yīng)。隨pH升高,銅離子和檸檬酸根的配位能力增強(qiáng),控制pH在8.8~9.2可有效防止置換反應(yīng)的發(fā)生;鍍液溫度升高,鐵絲發(fā)生置換反應(yīng)的可能性增大,因此,控制鍍液的工作溫度為45°C;鍍液中銅離子濃度增大,發(fā)生置換反應(yīng)的趨勢(shì)也增大,控制銅濃度為0.10~0.15mol/L??傮w而言,在本工藝下鐵絲發(fā)生置換反應(yīng)的時(shí)間至少要10min,這就解決了鍍液與鋼鐵基體之間的置換問題。

    3.2赫爾槽試驗(yàn)

    采用267mL的赫爾槽進(jìn)行試驗(yàn),以研究攪拌方式、溫度、pH、銅濃度、穩(wěn)定劑含量和添加劑含量對(duì)鍍層外觀的影響。鍍液體積為250mL,陰極為6.5cm×10.0cm的鐵片,電流為0.5A,時(shí)間為10min,結(jié)果如圖1所示。

圖

    從圖1可知,攪拌和鼓空氣對(duì)鍍層質(zhì)量有明顯影響。鍍液未攪拌時(shí),赫爾槽試片高端1.0~1.5cm鍍層燒焦;攪拌和鼓空氣時(shí),試片為全光亮紫銅色。鍍液為25°C時(shí),赫爾槽試片高端3.0cm燒焦;35~55°C時(shí),赫爾槽試片全光亮。為保證銅沉積速率和防止發(fā)生置換反應(yīng),控制工作溫度為45°C。鍍液pH在8.5~11.5時(shí),赫爾槽試片均全光亮。鍍液中銅離子濃度為0.05mol/L時(shí),赫爾槽試片高端2.0cm燒焦;銅離子濃度為0.1~0.2mol/L時(shí),赫爾槽試片全光亮,銅離子濃度增大,則發(fā)生置換反應(yīng)的傾向也變大。因此,適宜的銅離子濃度為0.10~0.15mol/L。穩(wěn)定劑含量為0.05mol/L時(shí),赫爾槽試片整體發(fā)暗;穩(wěn)定劑含量為0.1~0.3mol/L時(shí),赫爾槽試片全光亮。添加劑含量為2mL/L時(shí),赫爾槽試片高端7.0cm發(fā)暗;添加劑含量為5~20mL/L時(shí),赫爾槽試片全光亮。通過赫爾槽試驗(yàn),不僅考察了鍍液組分和工藝條件對(duì)鍍層外觀的影響,而且也為生產(chǎn)過程出現(xiàn)故障時(shí),提供了判斷依據(jù)。

    3.3抗雜質(zhì)能力

    在鍍液中,逐漸添加金屬雜質(zhì)離子,通過赫爾槽試驗(yàn)(工藝條件同3.2),觀察鍍層外觀以研究鍍液的抗雜質(zhì)能力。鍍液中加入Fe2+后,鍍液顏色逐漸變綠,但Fe2+含量達(dá)1600mg/L時(shí),赫爾槽試片仍保持全光亮。加入Fe3+后,鍍液同樣逐漸變綠,但Fe3+含量達(dá)1600mg/L時(shí),赫爾槽試片同樣為全光亮。鍍液中加入的Zn2+含量低于160mg/L時(shí),赫爾槽試片全光亮;Zn2+含量為320mg/L時(shí),赫爾槽試片高端2cm發(fā)暗;640mg/L時(shí),赫爾槽試片高端4cm發(fā)暗。鍍液中加入的Sn(IV)離子含量低于160mg/L時(shí),赫爾槽試片全光亮;320mg/L時(shí),赫爾槽試片高端2cm略發(fā)霧;640mg/L時(shí),赫爾槽試片高端4cm發(fā)霧。綜合上述結(jié)果可知,鍍液的抗雜質(zhì)能力優(yōu)良,F(xiàn)e2+和Fe3+含量高達(dá)1600mg/L時(shí),赫爾槽試片仍全光亮。

    3.4電流效率

圖

    電流效率隨電流密度提高而略有降低,說明高電流密度下沉積過程的析氫反應(yīng)逐漸增強(qiáng),但0.5~2.0A/dm2電流密度下,電流效率均在85%以上。鍍液pH高時(shí),銅配位離子更加穩(wěn)定,放電更為困難,因此,隨鍍液pH升高,電流效率降低。電流效率隨溫度升高而提高,因?yàn)闇囟雀哂欣谂湮汇~離子的傳質(zhì)過程,使電流效率增大。銅離子濃度提高,有利于銅離子的電沉積,但銅離子濃度過高,發(fā)生置換反應(yīng)等副反應(yīng)的可能性增大,同時(shí)也使生產(chǎn)過程的帶出損失成本增加。因此,鍍液的最佳組成和工藝條件為:電流密度1.0~1.5A/dm2,pH8.8~9.2,溫度45°C,銅離子濃度0.1mol/L??刂七m當(dāng)?shù)腻円航M分與工藝參數(shù)可使電流效率保持在90%以上,比氰化預(yù)鍍銅的電流效率高50%左右。

    3.5鍍液深鍍能力及鍍層結(jié)合力

    3.5.1鍍液深鍍能力

    鍍液的深鍍能力是衡量鍍液在實(shí)際電鍍件表面能否完全鍍覆沉積層的重要指標(biāo)之一。采用直徑1cm、長(zhǎng)10cm、一端封閉的黃銅管作陰極,銅管開口一端正對(duì)銅陽(yáng)極,在45°C、1.5A/dm2下電鍍10min后,取出試樣后清洗并吹干,觀察黃銅管內(nèi)、外表面銅鍍層的覆蓋情況。結(jié)果表明,整個(gè)黃銅管內(nèi)側(cè)均覆蓋有銅鍍層,深鍍能力達(dá)100%。這說明鍍液的深鍍能力優(yōu)異,有利于形狀復(fù)雜零件的電鍍。

    3.5.2鍍層結(jié)合力

    熱震試驗(yàn)是檢驗(yàn)鍍層結(jié)合力最常用的方法之一。將4cm×5cm的鐵片依次除油、水洗、酸洗、水洗后,在45°C、1.0A/dm2下電鍍無氰堿銅10min(約2μm),經(jīng)水洗、活化后,再依次電鍍酸銅10μm、鎳10μm、鉻0.25μm,水洗、吹干后,置于200°C恒溫箱中保溫1h,取出投入室溫水中,觀察鍍層有無起泡或脫皮。結(jié)果表明,鐵基體上的鍍層均無起泡和脫皮現(xiàn)象,說明鍍層與基體間的結(jié)合力良好。

    3.6鍍液穩(wěn)定性

    老化試驗(yàn)是檢測(cè)鍍液穩(wěn)定性的最可靠方法。在正常工藝條件下,通過正常的補(bǔ)充和維護(hù),進(jìn)行掛鍍?cè)囼?yàn),考察鍍液穩(wěn)定性和陽(yáng)極溶解情況。1L鍍液,累計(jì)電鍍達(dá)50A·h后,進(jìn)行赫爾槽試驗(yàn),所得試片表面為全光亮,且呈亮銅色;經(jīng)分析,鍍液中的銅離子含量仍處于正常工藝范圍。說明該工藝的穩(wěn)定性良好,陽(yáng)極溶解正常。

    4·生產(chǎn)實(shí)踐

    將本工藝用于2個(gè)工廠,分別替代原有的氰化鍍銅和酸性沖擊鎳工藝,至撰文時(shí)已連續(xù)生產(chǎn)數(shù)月,鍍液穩(wěn)定,所得產(chǎn)品結(jié)合力滿足要求,質(zhì)量穩(wěn)定。開槽時(shí)若陰陽(yáng)極的面積比未調(diào)整,鍍液中的銅離子含量易發(fā)生變化。通過調(diào)整陰陽(yáng)極的面積比為1∶(2~4),鍍液中的銅離子含量恢復(fù)正常。生產(chǎn)過程中的常見故障和處理方法如表1所示。

表

    5·結(jié)語

    本工藝鍍液中不含多聚磷酸鹽配位劑(如HEDP)等含磷物質(zhì),廢水處理相對(duì)環(huán)保,適用于鋼鐵和銅合金件的預(yù)鍍銅打底。鋼鐵件置于鍍液中10 min,不發(fā)生置換反應(yīng);工藝的綜合性能與氰化物鍍銅相當(dāng),完全可取代氰化物鍍銅工藝。本工藝所得鍍層與鋼鐵基體的結(jié)合力合格。工業(yè)化生產(chǎn)中,工藝穩(wěn)定、可控,生產(chǎn)026622和維護(hù)成本與氰化物鍍銅相當(dāng),經(jīng)過數(shù)月的生產(chǎn)實(shí)踐考驗(yàn),鍍液穩(wěn)定,產(chǎn)品結(jié)合力良好。

    參考文獻(xiàn)略

責(zé)任編輯:侯俊梅

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