ADLC

　　無定形金剛石硬質(zhì)合金材料含有大量的 SP3 而且具有所需的金剛石和石墨的優(yōu)良性能。

　　批次

　　一個批次指能在同一爐，同一時間進(jìn)行涂層的零件組

　　陰極

　　陰極是一個 PVD 術(shù)語，通常指陰極源或靶材，更嚴(yán)格地說指陰極，是靶材安裝的極板，并在涂層工序中發(fā)生氣化。

　　CVA

　　鋁化化學(xué)氣相沉積過程擴(kuò)散鋁合金到部件表面，提高抗高溫能力，防腐和抗氧化性能。

　　CVD

　　化學(xué)氣相沉積過程是由反應(yīng)氣體通過化學(xué)反應(yīng)進(jìn)行涂層沉積，在標(biāo)準(zhǔn)的 CVD 情況下，該反應(yīng)在 800 — 1050 ℃的高溫下進(jìn)行。

　　工藝時間

　　涂層時間是一個完整的過程，從一批次裝載到涂層、冷卻和卸載。

　　微米

　　微米是百萬分之一米

　　PACVD

　　離子活化 CVD 或離子加強(qiáng) CVD ，這是 CVD 的低溫(低于 200 ℃)的加工過程，在 PACVD 情況下，通過 RF 電源進(jìn)行氣體反應(yīng)。

　　PECVD

　　離子加強(qiáng) CVD

　　PVD

　　物理氣相沉積是在涂層設(shè)備爐膛，通過靶材的氣化沉積涂層的物理過程。

　　源

　　源是 PVD 術(shù)語，它是一種裝置，用來裝夾靶材，同時包括觸發(fā)器，磁體，殼體和冷卻系統(tǒng)，源有時指陰極。

　　sp2

　　硬質(zhì)合金原子類似于石墨

　　sp3

　　硬質(zhì)合金原子類似于天然金剛石

　　基體

　　涂層是的基體材料

　　靶材

　　target 是 PVD 術(shù)語，指被氣化的金屬材料，靶材與源一起通常范指陰極或源。