牛津儀器推出了硅漂移探測(cè)器新產(chǎn)品X-Max Extreme，該探測(cè)器在場(chǎng)發(fā)射電鏡及聚焦離子束掃描電鏡應(yīng)用中，能夠獲取突破性的超高分辨率。這款獨(dú)特的探測(cè)器第一次使得能譜儀能夠在非常低的加速電壓下(1kV 到3kV之間)采集數(shù)據(jù)，并且在非常短的工作距離進(jìn)行元素分析。

　　近年來(lái)，超高分辨率的場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡在更小的納米結(jié)構(gòu)、界面和表面觀察中展示了令人激動(dòng)的分析功能。然而，在非常短的工作距離、非常低的加速電壓、和非常小的束流條件下，傳統(tǒng)的硅漂移探測(cè)器很難進(jìn)行元素表征。新的X-Max Extreme改變了這一切。X-Max Extreme為有效探測(cè)面積為100mm2的無(wú)窗型能譜儀，它能夠在較短的工作距離下采集數(shù)據(jù)。利用X-Max Extreme，能夠同時(shí)進(jìn)行成像和EDS分析，而且能譜分辨率接近掃描電鏡的分辨率。

　　X射線業(yè)務(wù)部門(mén)經(jīng)理Simon Burgess表示：“X-Max提供超出傳統(tǒng)微米或納米分析的解決方案。例如，X-Max Extreme的靈敏度允許用戶表征表面污染物和幾個(gè)原子層厚的樣品的成分組成及分布。對(duì)于輕元素，包括鋰，它也能夠提供一流的檢測(cè)?！?/p>